「股票股价」国产光刻技术迎重大突破相关概念龙头股票票

　　国产光刻技术迎重大突破 光刻机概念股龙头一览
　　中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸研究员与国家纳米中心刘前研究员合作，成功开发新型5nm超高精度激光光刻加工方法。
　　据中科院7月7日官网报道，研究团队近日发表论文，提出一种新型5nm超高精度激光光刻加工方法，利用这种超分辨的激光直写技术，实现了纳米狭缝电极阵列结构的大规模制备，打破了传统激光直写技术中受体材料为有机光刻胶的限制，可使用多种受体材料，扩展了激光直写的应用场景。该技术在集成电路、光子芯片、微机电系统等众多微纳加工领域展现了广阔的应用前景。
　　华创证券指出，长期以来激光直写技术很难做到纳米尺度的超高精度加工，此次中国研究团队很好地解决了高效和高精度之间的固有矛盾，开发的新型微纳加工技术在集成电路、光子芯片、微机电系统等众多微纳加工领域展现了广阔的应用前景。
　　近日，光刻机双工件台生厂商华卓精科的申请IPO获科创板正式受理，此前公司曾在新三板挂牌。这家公司引发了市场高度关注，并被誉为国产光刻机第一股。
　　目前全球的光刻机整机市场，长期被ASML 市占率70%以上 、尼康和佳能完全垄断，三者合计市场占有率高达99%，国内方面的重要整机厂商则主要是上海微电子。
　　据了解，光刻机工件台只是一个光刻机中的一个位移平台 器件 ，通常成套光刻机设备里面就含有，跟光刻机本身差距还较远。
　　不过，华卓精科率先在国内打破国际巨头ASML对光刻机双工件台的垄断，是国内首家可自主研发并实现商业化生产的光刻机双工件台供应商。公司主营业务以光刻机双工件台为核心的超精密测控装备整机及部件，应用领域覆盖集成电路制造、超精密制造、光学、医疗、3C制造等行业。
　　a股产业链相关概念股：
　　苏大维格(300331)：研发成功紫外激光直写光刻关键技术、软件和装备，处于国际领先地位。公司在互动平台表示，与中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所有项目合作。
　　清溢光电：主要采用激光直写法生产集成电路掩膜版，客户包括中芯国际等。
　　柏楚电子：国内中低功率激光切割控制系统领域已基本实现进口替代，推出CAD、CAM和NC三合一激光切割控制系统，一体化系统实现了功能融合。公司中低功率领域的相关技术水平已达到国际领先，市占率约60%。

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